[发明专利]连续流磁-水力搅拌多段式顺磁性光催化反应床有效
申请号: | 201711306280.9 | 申请日: | 2017-12-11 |
公开(公告)号: | CN107983271B | 公开(公告)日: | 2021-04-30 |
发明(设计)人: | 李钒;李茂梅;金天;王越;安震涛 | 申请(专利权)人: | 北京工业大学 |
主分类号: | B01J8/18 | 分类号: | B01J8/18;B01J8/24 |
代理公司: | 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 | 代理人: | 张立改 |
地址: | 100124 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 连续流磁‑水力搅拌多段式顺磁性光催化反应床,涉及光催化领域。该反应床为浅层流化床,每个反应床单元按流向依次包含超低频磁力搅拌段A、水力搅拌段B和光催化段C,采用多个反应床单元;多个反应床单元串联相接为完整的反应床,在反应单元之间采用部分回流。首先送入超低频磁力搅拌段A,途径电磁铁,受超低频磁场垂直振动搅拌后,进入水力搅拌段B,经过水力搅拌段B渐缩部分流入喉部减压,再经过突然扩大处,突然减速形成湍流;利用反应体系的流体特性令湍流维持在后续透光的光催化段C内并同时进行光催化,实现强化搅拌,达到更新催化剂表面的目的,反应床单元整体透光并受光照射,光照催化主要在C段发生,能提高光催化技术。 | ||
搜索关键词: | 连续流 水力 搅拌 段式 顺磁性 光催化 反应 | ||
【主权项】:
一种连续流磁‑水力搅拌多段式顺磁性光催化反应床,其特征在于:该反应床为高0.5~4cm的浅层流化床,每个反应床单元按流向依次包含超低频磁力搅拌段A、水力搅拌段B和光催化段C,采用多个反应床单元;多个反应床单元串联相接为完整的反应床,在反应单元之间采用部分回流。
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