[发明专利]一种低氧化钠杂质含量α相氧化铝的制备方法有效
| 申请号： | 201711306821.8 | 申请日： | 2017-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN108190930B | 公开（公告）日： | 2020-09-08 |
| 发明（设计）人： | 刘学新;李文 | 申请（专利权）人： | 湖北斯曼新材料有限公司 |
| 主分类号： | C01F7/46 | 分类号： | C01F7/46 |
| 代理公司： | 武汉开元知识产权代理有限公司 42104 | 代理人： | 马辉 |
| 地址： | 434001 湖北省*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种低氧化钠杂质含量α相氧化铝的制备方法，其特征在于，步骤为：a.将二氧化硅砂子、矿化剂加入氧化钠质量含量≤0.50％的γ氧化铝细粉中，在700‑1000℃的高温窑炉中预处理3‑4h；b.将高温窑炉中热处理温度提高到1200℃‑1500℃后保温1‑10h，得到氧化钠质量含量≤0.20％的α相氧化铝。本发明可以在700‑1000℃范围内显著去除氧化铝中的杂质氧化钠成分，低至0.2％以下。最终得到产物中氧化钠含量0.03‑0.20％、α相氧化铝转化率93‑96.5％。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 氧化 杂质 含量 氧化铝 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种低氧化钠杂质含量α相氧化铝的制备方法，其特征在于，步骤为：a.将二氧化硅砂子、矿化剂加入氧化钠质量含量≤0.50％的γ氧化铝细粉中，在700‑1000℃的高温窑炉中预处理3‑4h；b.将高温窑炉中热处理温度提高到1200℃‑1500℃后保温1‑10h，得到氧化钠质量含量≤0.20％的α相氧化铝。
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