[发明专利]一种对高黏复杂液相具有疏液特性表面的制备方法有效

专利信息
申请号: 201711307584.7 申请日: 2017-12-11
公开(公告)号: CN108165963B 公开(公告)日: 2020-08-18
发明(设计)人: 祝青;谢虓;郑保辉;李尚斌;罗观 申请(专利权)人: 中国工程物理研究院化工材料研究所
主分类号: C23C22/02 分类号: C23C22/02;C23C22/78;C23G1/08;C23G1/10;C23G1/12;C23G1/19;C23G1/20;C23G1/22
代理公司: 四川省成都市天策商标专利事务所 51213 代理人: 刘兴亮
地址: 621000*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种对高黏复杂液相具有疏液特性表面的制备方法,包括如下步骤:(1)以金属铜、铝、不锈钢或硅片为基底;(2)在基底表面构造微米阵列。(3)用稀盐酸浸泡,使用大量的水冲洗。(4)配置过硫酸铵的碱性溶液。(5)将基体置于过硫酸铵的碱性溶液中浸泡,随后取出用水冲洗干净,再烘干。(6)配置含氟硅氧烷或含氟有机酸的有机溶液。(7)将烘干的样品置于含氟硅氧烷或含氟有机酸的有机溶液中浸泡。(8)取出样品后置于烘箱烘干,得到对高黏复杂液相具有超疏液表面。本发明主要通过在基体表面经过不同微纳米结构的设计与构筑,然后在结构表面通过含氟官能团的修饰后,使其具有对高黏复杂液相具有疏液的性能。
搜索关键词: 一种 复杂 具有 特性 表面 制备 方法
【主权项】:
1.一种对高黏复杂液相具有疏液特性表面的制备方法,其特征在于包括如下步骤:

(1)以金属铜、铝、不锈钢或硅片为基底,使用有机溶剂将基底进行超声清洗,清洗时间为0.1~2h;

(2)使用机械铣削或线切割的方法在基底表面构造微米阵列;

(3)使用0.01mol/L~1mol/L的稀盐酸浸泡具有微阵列的基底,时间为10s~5min,随后使用大量的水冲洗表面使其洁净;

(4)配置过硫酸铵的碱性溶液,其中过硫酸铵的浓度为0.05mol/L~2mol/L,碱性溶液为强碱性物质的溶液,浓度为1mol/L~10mol/L;

(5)将洁净的具有微阵列的基体置于过硫酸铵的碱性溶液中浸泡,时间为10min~24h,随后取出使用水冲洗表面液体使其干净,再置于烘箱中烘干;

(6)配置含氟硅氧烷或含氟有机酸的有机溶液,浓度为0.01mmol/L~50mmol/L;

(7)将烘干的样品置于含氟硅氧烷或含氟有机酸的有机溶液中浸泡,时间为15min~24h;

(8)取出样品后置于烘箱中,在温度60℃~150℃的条件下烘干,时间为2h~48h,得到对高黏复杂液相具有超疏液表面。

2.根据权利要求1所述对高黏复杂液相具有疏液特性表面的制备方法,其特征在于:

步骤(1)中,有机溶剂为乙醇或乙酸乙酯。

3.根据权利要求1所述对高黏复杂液相具有疏液特性表面的制备方法,其特征在于:

所述微米阵列为正方柱状阵列或三角锥状阵列,其中阵列边长为10um~500um,阵列间隙为50um~800um,阵列深度为200um~4000um。

4.根据权利要求1所述对高黏复杂液相具有疏液特性表面的制备方法,其特征在于:

所述强碱性物质为氢氧化钠、氢氧化钾或磷酸钠。

5.根据权利要求1所述对高黏复杂液相具有疏液特性表面的制备方法,其特征在于:

所述含氟硅氧烷的分子结构为其中R1为‑CF3或‑CnH2n‑m+1Fm,‑CnH2n‑m+1Fm中1≤n≤18,1≤m≤32;其中R2为‑CF3或‑CnH2n‑m+1Fm,‑CnH2n‑m+1Fm中1≤n≤18,1≤m≤32。

6.根据权利要求1所述对高黏复杂液相具有疏液特性表面的制备方法,其特征在于:

其中含氟有机酸的分子式为HOOC‑CnH2n‑m+1Fm,1≤n≤18,1≤m≤32。

7.根据权利要求1所述对高黏复杂液相具有疏液特性表面的制备方法,其特征在于:

步骤(6)中的有机溶剂为乙醇、甲醇、正己烷、乙酸乙酯或正庚烷。

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