[发明专利]激光器及其制备方法有效
| 申请号： | 201711308668.2 | 申请日： | 2017-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN108075352B | 公开（公告）日： | 2020-01-24 |
| 发明（设计）人： | 尚飞 | 申请（专利权）人： | 青岛海信宽带多媒体技术有限公司 |
| 主分类号： | H01S5/068 | 分类号： | H01S5/068;G02B5/18 |
| 代理公司： | 11438 北京律智知识产权代理有限公司 | 代理人： | 邢雪红;乔彬 |
| 地址： | 266555 山东省青*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本公开涉及半导体激光器，提供了一种激光器及其制备方法，所述激光器包括：衬底；有源层，位于所述衬底上；光栅层，位于所述有源层上，所述光栅层包括位于第一区域的具有第一占空比的均匀光栅和位于第二区域的具有第二占空比的均匀光栅，所述第一区域和所述第二区域相邻；所述具有第一占空比的均匀光栅与所述具有第二占空比的均匀光栅可以透射相同波长的光。一方面利用两种不同占空比的光栅透射出的光波长重合，使得激光器的激射波长获得最低的阈值增益，获得良好的单模输出光谱，另一方面采用且不改变全息曝光工艺，仅通过改变刻蚀工艺实现不同占空比的均匀光栅，避免了采用成本高昂的相移技术，简化了工艺流程，降低了制造成本。 | ||
| 搜索关键词： | 占空比 均匀光栅 激光器 第二区域 第一区域 光栅层 透射 衬底 源层 半导体激光器 激射波长 刻蚀工艺 全息曝光 输出光谱 制造成本 阈值增益 光栅 工艺流程 光波长 波长 重合 单模 相移 制备 | ||
【主权项】：
1.一种激光器，其特征在于，包括：/n衬底；/n有源层，位于所述衬底上；/n光栅层，位于所述有源层上，所述光栅层包括位于第一区域的具有第一占空比的均匀光栅和位于第二区域的具有第二占空比的均匀光栅，所述第一区域和所述第二区域相接；/n所述具有第一占空比的均匀光栅与所述具有第二占空比的均匀光栅透射相同波长的光，以使激光器的激射波长具有最低的阈值增益。/n
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