[发明专利]质谱仪中同量异位干扰的确定有效
| 申请号： | 201711308681.8 | 申请日： | 2017-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN108206125B | 公开（公告）日： | 2020-06-09 |
| 发明（设计）人： | J·施韦特斯;H·威尔斯 | 申请（专利权）人： | 塞莫费雪科学(不来梅)有限公司 |
| 主分类号： | H01J49/00 | 分类号： | H01J49/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 乐洪咏;江磊 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供在质量分析期间在质谱仪中确定同量异位干扰的方法。所述方法包括比较化学物种的无干扰反应分布与可包括同量异位干扰的所述相同化学物种的反应分布，其中所述分布之间的差异的确定指示存在同量异位干扰。还提供对同量异位干扰进行定量的方法，包含校正在存在同量异位干扰的情况下确定的同位素比率的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 质谱仪 同量 干扰 确定 | ||
【主权项】：
1.一种在质量分析期间在质谱仪中确定存在同量异位干扰物种的方法，所述方法包括以下步骤：a.在离子源中产生不含同量异位干扰离子的第一离子；b.将所述第一离子传输到包含至少一种反应气体的反应室中；c.确定所述第一离子与所述反应气体的反应的第一反应分布；d.在所述离子源中产生具有与所述第一离子相同的化学物种的第二离子，其可包含同量异位干扰离子；e.将所述第二离子传输到包含所述至少一种反应气体的所述反应室中；f.确定所述第二离子与所述反应气体的反应的第二反应分布；以及g.比较所述第一和第二反应分布，其中所述分布之间的差异指示同量异位干扰存在于所述第二离子中。
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