[发明专利]一种适用于环形工件的沉积室和化学气相沉积系统有效
申请号: | 201711309802.0 | 申请日: | 2017-12-11 |
公开(公告)号: | CN108060409B | 公开(公告)日: | 2020-02-21 |
发明(设计)人: | 戴煜;胡高健;谭瑞轩;胡祥龙;周岳兵 | 申请(专利权)人: | 湖南顶立科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/455 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 罗满 |
地址: | 410118 湖南省长*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本申请公开一种适用于环形工件的沉积室,包括:保温室主体;设于保温室主体内的内保温层;保温室主体与内保温层之间形成沉积空间;用于向沉积空间内供入工艺气体的沉积喷气部;设于保温室主体与内保温层之间的加热结构;沉积空间内具有用于放置环形工件的沉积位。本申请提供的适用于环形工件的沉积室,与现有技术相比,其能够提高工艺气体的利用率,降低沉积设备能耗,本申请还提供一种化学气相沉积系统,同样具有上述有益效果。 | ||
搜索关键词: | 一种 适用于 环形 工件 沉积 化学 系统 | ||
【主权项】:
1.一种适用于环形工件的沉积室,其特征在于,包括:保温室主体;设于所述保温室主体内的内保温层;所述保温室主体与所述内保温层之间形成沉积空间;用于向所述沉积空间供入工艺气体的沉积喷气部;设于所述保温室主体与所述内保温层之间的加热结构;所述沉积空间内具有用于放置环形工件的沉积位。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的