[发明专利]一种适用于柔性衬底的纳米孔阵列承片台有效
申请号: | 201711316128.9 | 申请日: | 2017-12-12 |
公开(公告)号: | CN107942621B | 公开(公告)日: | 2020-04-10 |
发明(设计)人: | 罗先刚;蒲明博;高平;马晓亮;薛磊 | 申请(专利权)人: | 中国科学院光电技术研究所 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 610209 *** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明公开了一种适用于柔性衬底的纳米孔阵列承片台,该承片台核心部件为阳极氧化铝孔基板,表面均布纳米级气孔,与气流盘连通,气流盘接通气源后,整个阳极氧化铝孔基板均匀气流,在曝光与掩模板贴合的过程中,增大气源气压,使得基片脱离阳极氧化铝孔基板挤压掩模板,实现气浮曝光,能够有效的提高曝光精度。曝光过程中,工作区域温度升高,该承片台在温度升高一定范围内平整精度升高,避免基片扭曲变形,图形失真等现象,同时也避免了基片受力不均、内部应力大的问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 适用于 柔性 衬底 纳米 阵列 承片台 | ||
【主权项】:
一种适用于柔性衬底的纳米孔阵列承片台,其特征在于:包括底盘(1)、定位盘(2)、阳极氧化铝孔基板(3)、基片(4)、气流盘(5)、L型转接头(6)和气管(7),底盘(1)底部与气流盘(5)接触,气流盘(5)将气体由气流道引导至阳极氧化铝孔基板(3)底面,阳极氧化铝孔基板底面(3)设计的导流槽,能够将进入的气体均匀分部到整个平面,使得整个基片受力均匀、减小应力,定位盘(2)以螺钉连接方式安装在底盘(1)上,气流盘(5)安装在底盘(1)平面上,阳极氧化铝孔基板(3)安装在定位盘(2)内与气流盘(5)同心放置,基片镶嵌在定位盘(2)上表面贴放在阳极氧化铝孔基板(3)上表面,L型转接头(6)连接在气流盘(5)的气流道外口,由气管(7)将整个气路系统与气源连接。
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