[发明专利]一种具有气体传感功能的二维材料源跟随器有效

专利信息
申请号: 201711321321.1 申请日: 2017-12-12
公开(公告)号: CN108152336B 公开(公告)日: 2020-04-28
发明(设计)人: 吴丽翔;孙全胜;王高峰 申请(专利权)人: 杭州电子科技大学
主分类号: G01N27/12 分类号: G01N27/12
代理公司: 杭州君度专利代理事务所(特殊普通合伙) 33240 代理人: 朱月芬
地址: 310018 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及一种具有气体传感功能的二维材料源跟随器。现有产品在传感器与IC的互连中,易产生寄生效应,对传感信号产生影响。本发明包括两个用二维材料WS2制作的晶体管,其中M1当作气体传感器,M1的漏极接电源电压,栅极接基准电压,使M1工作在饱和区,M1的源极接M2的漏极,M2的栅极接基准电压,使第二NMOS管M2工作在饱和区,M2的源极接地,M2的漏极接输出,将第二NMOS管M2用绝缘材料覆盖住。本发明采用的是二维材料WS2制成的晶体管,将传感器与信号处理电路集成在一个晶圆上的器件结构,将气体传感器和信号处理电路设计在同一块Wafer上,不仅使器件结构更紧凑,也大大提高了传感性能。
搜索关键词: 一种 具有 气体 传感 功能 二维 材料 跟随
【主权项】:
一种具有气体传感功能的二维材料源跟随器,包括两个用二维材料WS2制作的晶体管,其中第一NMOS管M1当作气体传感器,其特征在于:所述的第一NMOS管M1的漏极接电源电压VDD,第一NMOS管M1的栅极接基准电压Vb,使第一NMOS管M1工作在饱和区,第一NMOS管M1的源极接第二NMOS管M2的漏极,第二NMOS管M2的栅极接基准电压Vb,使第二NMOS管M2工作在饱和区,第二NMOS管M2的源极接地,第二NMOS管M2的漏极接输出Vout;所述的第一NMOS管M1和第二NMOS管M2的结构相同,均采用顶栅结构,最下层为SiO2衬底,在SiO2衬底上面用化学气相沉积技术长一层WS2层,WS2层上设置NMOS管的漏极和源极,漏极和源极对称设置在WS2层上;WS2层上除漏极和源极位置外覆盖绝缘层;绝缘层上设置有栅极,栅极位于源极与漏极中心连线的中间。
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