[发明专利]负折射成像光刻方法和设备在审
| 申请号： | 201711323769.7 | 申请日： | 2017-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN109901363A | 公开（公告）日： | 2019-06-18 |
| 发明（设计）人： | 罗先刚;王彦钦;王长涛;刘玲;孔维杰;高平 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 倪斌 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本公开的实施例提出了一种负折射成像光刻方法和设备。所述光刻方法包括：在器件衬底上涂覆光致抗蚀剂；制备负折射结构，其中所述负折射结构对于曝光光源发射的光的波长表现出负折射率；将光刻板与所述负折射结构贴合；将所述光刻板和所述负折射结构置于所述器件衬底上方，与所述器件衬底间隔开投影间隙的投影距离；以及曝光光源发射光，依次通过所述光刻板、所述负折射结构、投影间隙投射到所述光致抗蚀剂上进行曝光。负折射成像光刻方法和设备无需传统投影光刻所需的几十个面形和位置都为纳米精度的镜片，成本可以急剧降低；同时所述方法具有无光轴成像特点，整个负折射成像结构具有空间平移对称性，可以实现大成像视场光刻。 | ||
| 搜索关键词： | 负折射 方法和设备 成像光刻 光刻板 衬底 光刻 光致抗蚀剂 曝光光源 投影间隙 成像结构 成像视场 成像特点 传统投影 负折射率 空间平移 投影距离 发射光 波长 光轴 镜片 面形 贴合 投射 涂覆 制备 发射 曝光 表现 | ||
【主权项】：
1.一种负折射成像光刻方法，包括：在器件衬底上涂覆光致抗蚀剂；制备负折射结构，其中所述负折射结构对于曝光光源发射的光的波长表现出负折射率；将光刻板与所述负折射结构贴合；将所述光刻板和所述负折射结构置于所述器件衬底上方，与所述器件衬底间隔开投影间隙的投影距离；以及曝光光源发射光，依次通过所述光刻板、所述负折射结构、投影间隙投射到所述光致抗蚀剂上进行曝光。
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