[发明专利]金属MO膜连续磁控溅射生产线在审
申请号: | 201711333484.1 | 申请日: | 2017-12-13 |
公开(公告)号: | CN109913833A | 公开(公告)日: | 2019-06-21 |
发明(设计)人: | 祝海生;孙桂红;陈立;凌云;黄夏;黄国兴 | 申请(专利权)人: | 湘潭宏大真空技术股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/56;C23C14/08 |
代理公司: | 上海精晟知识产权代理有限公司 31253 | 代理人: | 张超宇;冯子玲 |
地址: | 411100 湖*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本发明公开了金属MO膜连续磁控溅射生产线,包括依次连接的进口室、进口缓冲室、进口传送室、溅射室、出口传送室、出口缓冲室、出口室和质检室,所述进口室、进口缓冲室、进口传送室、溅射室、出口传送室、出口缓冲室、出口室内均设有依次连接的传动辊,所述质检室内设有镀膜质检辊和质检系统,所述出口室内传动辊与镀膜质检辊相连,所述传动辊与镀膜质检辊用于传送镀膜基片。本发明提供的金属MO膜连续磁控溅射生产线能够实现各类大面积镀膜的大批量、低成本生产,而且溅射沉积速率高,工艺通用性强。素扩散路径短,无中间产物,无元素蒸发,因而制备速度快、效率高,良品率高达95%以上,特别适合大规模工业化生产。 | ||
搜索关键词: | 传送室 缓冲室 质检 磁控溅射生产线 传动辊 金属MO 出口 镀膜 依次连接 溅射室 进口室 进口 室内 大规模工业化生产 大面积镀膜 低成本生产 镀膜基片 溅射沉积 扩散路径 通用性强 质检系统 出口室 良品率 质检室 制备 蒸发 传送 | ||
【主权项】:
1.金属MO膜连续磁控溅射生产线,其特征在于:包括依次连接的进口室、进口缓冲室、进口传送室、溅射室、出口传送室、出口缓冲室、出口室和质检室,所述进口室、进口缓冲室、进口传送室、溅射室、出口传送室、出口缓冲室、出口室内均设有依次连接的传动辊,所述质检室内设有镀膜质检辊和质检系统,所述出口室内传动辊与镀膜质检辊相连,所述传动辊与镀膜质检辊用于传送镀膜基片。
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