[发明专利]一种日光温室黄瓜残株还田的方法及其应用有效
| 申请号： | 201711333863.0 | 申请日： | 2017-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN108093730B | 公开（公告）日： | 2020-08-21 |
| 发明（设计）人： | 于贤昌;魏晓璇;李衍素;贺超兴;闫妍 | 申请（专利权）人： | 中国农业科学院蔬菜花卉研究所 |
| 主分类号： | A01B79/02 | 分类号： | A01B79/02 |
| 代理公司： | 北京中济纬天专利代理有限公司 11429 | 代理人： | 王园园 |
| 地址： | 100081 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种日光温室黄瓜残株还田的方法以及其应用，该方法包括：将日光温室中的黄瓜残株进行直接机械粉碎并覆盖于土壤上，向黄瓜残株碎段上喷水，然后进行初级高温降解；土壤表面施用有机肥并旋耕深翻覆盖有机肥和初级高温降解所得到的黄瓜残株碎段的土壤，灌水，覆地膜，然后进行次级高温降解，以杀灭20‑30cm以上土壤层中的病原菌和线虫并使得土壤中的黄瓜残株碎段腐熟，再通风换气；测定并调整土壤的pH值至6‑7；在定植下茬植株前进行移动式土壤蒸汽消毒，以杀灭40cm以上土壤层中的病原菌和线虫并疏松土壤。采用本发明的方法能够显著提高黄瓜的产量，并降低病虫害。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 日光温室 黄瓜 还田 方法 及其 应用 | ||
【主权项】：
1.一种日光温室黄瓜残株还田的方法，其特征在于，该方法包括：(1)将日光温室中的黄瓜残株进行直接机械粉碎并覆盖于土壤上，向黄瓜残株碎段上喷水，然后进行初级高温降解；(2)土壤表面施用有机肥并旋耕深翻覆盖有机肥和初级高温降解所得到的黄瓜残株碎段的土壤，灌水，覆地膜，然后进行次级高温降解，以杀灭20-30cm以上土壤层中的病原菌和线虫并使得土壤中的黄瓜残株碎段腐熟，再通风换气；(3)测定并调整土壤的pH值至6-7；(4)在定植下茬植株前进行移动式土壤蒸汽消毒，以杀灭40cm以上土壤层中的病原菌和线虫并疏松土壤。
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