[发明专利]LOW-E玻璃真空磁控溅射镀膜生产线在审
| 申请号： | 201711334377.0 | 申请日： | 2017-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN109913847A | 公开（公告）日： | 2019-06-21 |
| 发明（设计）人： | 祝海生;黄乐;陈立;凌云;黄夏;孙桂红;黄国兴 | 申请（专利权）人： | 湘潭宏大真空技术股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/35 |
| 代理公司： | 上海精晟知识产权代理有限公司 31253 | 代理人： | 张超宇;冯子玲 |
| 地址： | 411100 湖*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开了LOW‑E玻璃真空磁控溅射镀膜生产线，包括依次连接的上片区、进口腔室、进口缓冲腔室、进口传送腔室、溅射腔室、出口传送腔室、出口缓冲腔室、出口腔室、质检腔室和卸片区，所述上片区、进口腔室、进口缓冲腔室、进口传送腔室、溅射腔室、出口传送腔室、出口缓冲腔室、出口腔室和卸片区内均设有依次连接的传动台，所述质检腔室内设有镀膜质检区和质检系统，所述出口腔室内传动台与镀膜质检台相连。本发明提供的LOW‑E玻璃真空磁控溅射镀膜生产线能够实现各类镀膜的大批量、低成本生产，而且溅射沉积速率高，工艺通用性强，特别适合大规模工业化生产。 | ||
| 搜索关键词： | 传送腔室 真空磁控溅射镀膜 镀膜 质检 出口缓冲腔 进口缓冲腔 出口腔室 溅射腔室 进口腔室 依次连接 传动台 上片 大规模工业化生产 室内 低成本生产 溅射沉积 通用性强 质检系统 出口腔 卸片区 质检台 腔室 卸片 进口 出口 | ||
【主权项】：
1.LOW‑E玻璃真空磁控溅射镀膜生产线，其特征在于：依次连接的上片区、进口腔室、进口缓冲腔室、进口传送腔室、溅射腔室、出口传送腔室、出口缓冲腔室、出口腔室、质检腔室和卸片区，所述上片区、进口腔室、进口缓冲腔室、进口传送腔室、溅射腔室、出口传送腔室、出口缓冲腔室、出口腔室和卸片区内均设有依次连接的传动台，所述质检腔室内设有镀膜质检区和质检系统，所述出口腔室内传动台与镀膜质检台相连，所述传动台用于传送镀膜基片，所述镀膜质检台用于检测基片质量，所述溅射腔室包括至少一个镀膜分区，每个镀膜分区设有至少一旋转阴极和/或平面阴极。
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