[发明专利]基于广义最小最大凹惩罚的SAR成像方法在审
| 申请号： | 201711336352.4 | 申请日： | 2017-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN108152819A | 公开（公告）日： | 2018-06-12 |
| 发明（设计）人： | 张冰尘;魏中浩;吴一戎 | 申请（专利权）人： | 中国科学院电子学研究所 |
| 主分类号： | G01S13/90 | 分类号： | G01S13/90 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 曹玲柱 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本公开提供了一种开基于广义最小最大凹惩罚的SAR成像方法。该基于广义最小最大凹惩罚的SAR成像方法包括：利用SAR回波数据构建基于GMC的SAR成像模型；利用前向‑后向算法求解基于GMC的SAR成像模型，在满足迭代终止条件时，终止迭代计算；以及迭代终止后，得到关于SAR场景的表达式。本公开相比于基于L1正则化的SAR成像方法，基于GMC的SAR成像方法，可以避免在噪声的条件下对场景中目标散射强度幅度信息的低估，提高幅度估计精度。 | ||
| 搜索关键词： | 惩罚 迭代终止条件 场景 迭代计算 迭代终止 幅度估计 幅度信息 回波数据 正则化 散射 构建 后向 前向 求解 算法 噪声 | ||
【主权项】：
一种基于广义最小最大凹惩罚(GMC)的SAR成像方法，包括：利用SAR回波数据构建基于GMC的SAR成像模型；利用前向‑后向算法求解基于GMC的SAR成像模型，在满足迭代终止条件时，终止迭代计算；以及迭代终止后，得到关于SAR场景的表达式。
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