[发明专利]后处理模块的助留系统有效
| 申请号： | 201711337969.8 | 申请日： | 2017-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN108223081B | 公开（公告）日： | 2021-06-01 |
| 发明（设计）人： | K·E·切诺韦思;D·A·埃克斯 | 申请（专利权）人： | 卡特彼勒公司 |
| 主分类号： | F01N3/28 | 分类号： | F01N3/28 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 冷妮;吴鹏 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了一种与后处理模块一起使用的助留系统。助留系统可以包括设置在至少一个催化剂基底的至少一个表面上的第一支撑垫。助留系统还可以包括具有设置在第一支撑垫上的波纹部分的至少一个支撑板。助留系统可以进一步包括设置在波纹部分上的第二支撑垫。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 模块 系统 | ||
【主权项】：
1.一种用于具有至少一个催化剂基底的后处理模块的助留系统，所述助留系统包括：第一支撑垫，其设置在所述至少一个催化剂基底的至少一个表面上；至少一个支撑板，其具有设置在所述第一支撑垫上的波纹部分；以及第二支撑垫，其设置在所述波纹部分上。
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