[发明专利]pH响应型聚合物及其制备方法以及光刻胶组合物有效
| 申请号： | 201711338513.3 | 申请日： | 2017-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN108003273B | 公开（公告）日： | 2020-12-01 |
| 发明（设计）人： | 李伟;夏晶晶;周斌;刘军;胡迎宾;张扬;程磊磊 | 申请（专利权）人： | 合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C08F220/28 | 分类号： | C08F220/28;C08F220/06;C08F283/06;G03F7/038 |
| 代理公司： | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人： | 董天宝;于宝庆 |
| 地址： | 230012 *** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： |
本发明提供一种pH响应型聚合物及其制备方法以及光刻胶组合物。按重量百分比计，光刻胶组合物包括：1‑10％的具有式Ⅰ或式Ⅱ结构的pH响应型聚合物，5‑30％的树脂，0.1‑1％的光敏剂以及余量的溶剂，其中m为20‑100的整数，n为20‑100的整数x为1‑4的整数，R |
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| 搜索关键词： | ph 响应 聚合物 及其 制备 方法 以及 光刻 组合 | ||
【主权项】：
1.一种具有下面式Ⅰ结构的pH响应型聚合物，1 为甲基或氢原子，R2 为甲基或氢原子。
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