[发明专利]一种用于高通量基因测序设备的工艺芯片及其应用

摘要

本申请公开了一种用于高通量基因测序设备的工艺芯片及应用。本申请工艺芯片，包括硅片和硅片上的标记金属膜视场和OnPixle视场；标记金属膜视场包括：第一组：在视场中心的圆周上均匀设至少两组标记金属膜，每组沿中心线各设至少2个圆形金属膜标记；第二组：标记金属膜视场平分九份，在每区域内相应位置设刃边图形组，每组由两相同刃边图形呈侧卧“八”字形排布，刃边图形由金属膜标记而成；第三组：由N组一线排开的金属膜标记组成，每组包括两圆形金属膜标记，两圆形金属膜标记间距沿排列方向递增；OnPixle视场内均匀排布若干圆形金属膜标记。本申请工艺芯片，能有效评价工件台运动性能、光学系统成像质量，无生化反应误差，测试更准确，生命周期长。

主权项

1.一种用于高通量基因测序设备的工艺芯片，其特征在于：包括硅片和设置在所述硅片上的标记金属膜视场和OnPixle视场；所述标记金属膜视场包括以下三组图形中的至少一组：第一组：以标记金属膜视场的中心点为中心，在其视场的圆周上均匀的设置至少两组标记金属膜，每组标记金属膜沿着中心线各设置至少2个圆形金属膜标记；第二组：将标记金属膜视场按照上中下、左中右平均分为九个区域，在每个区域内相应的位置处设置一个刃边图形组，每个刃边图形组由两个相同的刃边图形构成，两个刃边图形呈侧卧的“八”字形排布，共计18个刃边图形，刃边图形由金属膜标记覆盖而成；第三组：由N组横向或纵向一线排开的金属膜标记组成，每组金属膜标记由上下或左右两个圆形金属膜标记组成，两个圆形金属膜标记的间距沿着排列方向各组逐步递增；所述OnPixle视场内横向和纵向等量的均匀间距的排布有若干个圆形金属膜标记。