[发明专利]抗杂散光干扰的近背向散射光测量系统在审

专利信息
申请号: 201711343146.6 申请日: 2017-12-14
公开(公告)号: CN107991064A 公开(公告)日: 2018-05-04
发明(设计)人: 闫亚东;何俊华;张敏;韦明智;薛艳博;许瑞华 申请(专利权)人: 中国科学院西安光学精密机械研究所
主分类号: G01M11/02 分类号: G01M11/02
代理公司: 西安智邦专利商标代理有限公司61211 代理人: 陈广民
地址: 710119 陕西省西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明属于光学测量技术领域,具体涉及一种抗杂散光干扰的近背向散射光测量系统。该测量系统包括取样装置和测量装置,取样装置包括球状真空靶室和成像镜头,球状真空靶室内设置有靶点和带有打靶激光通道的漫反射板,漫反射板附着于球状真空靶室内壁上;球状真空靶室的球壁上设置有测量窗口;打靶激光入射靶点产生的近背向散射光沿打靶反方向散射后由漫反射板产生漫反射,漫反射光穿透测量窗口后再通过成像镜头进入测量装置;成像镜头将漫反射板成像于一次像面,一次像面所在的平面上设置有隔离屏,隔离屏带有多个通光孔。本发明通过设置隔离屏,排除了靶室内壁散射的杂光进入诊断光路的可能性,起到了杂散光屏蔽的效果。
搜索关键词: 散光 干扰 背向 散射 测量 系统
【主权项】:
一种抗杂散光干扰的近背向散射光测量系统,包括取样装置和测量装置,其特征在于:所述取样装置包括球状真空靶室和成像镜头,所述球状真空靶室内设置有靶点和带有打靶激光通道的漫反射板,所述漫反射板附着于球状真空靶室内壁上;所述球状真空靶室的球壁上设置有测量窗口;打靶激光入射靶点产生的近背向散射光沿打靶反方向散射后由漫反射板产生漫反射,漫反射光穿透测量窗口后再通过成像镜头进入测量装置;所述成像镜头将漫反射板成像于一次像面,一次像面所在的平面上设置有隔离屏,所述隔离屏带有多个通光孔。
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