[发明专利]MOSFET的BTI性能测试电路及基于其的测试方法有效

专利信息
申请号: 201711343344.2 申请日: 2017-12-14
公开(公告)号: CN109975679B 公开(公告)日: 2021-06-08
发明(设计)人: 王锴 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
主分类号: G01R31/26 分类号: G01R31/26
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 张振军;吴敏
地址: 201203 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种MOSFET的BTI性能测试电路及基于其的测试方法,所述BTI性能测试电路包括:级联的多个反相器,每一反相器由P型MOSFET和N型MOSFET构建,各个反相器中的P型MOSFET的源极耦接第一施压端口,各个反相器的输入端耦接第二施压端口;多个第一传输电路,每两个反相器之间耦接有第一传输电路,响应于测量控制信号,第一传输电路导通或者关断;其中,在向各个反相器中的P型MOSFET和N型MOSFET的栅极和源极之间分别施加不同持续时间的预设的高压后,多个反相器的器件延迟相对变化率用于确定MOSFET的BTI性能模型。采用该发明技术方案可以简化对MOSFET的BTI性能测试方式,提高测试效率。
搜索关键词: mosfet bti 性能 测试 电路 基于 方法
【主权项】:
1.一种MOSFET的BTI性能测试电路,其特征在于,包括:级联的多个反相器,每一反相器由P型MOSFET和N型MOSFET构建,各个反相器中的P型MOSFET的源极耦接第一施压端口,各个反相器的输入端耦接第二施压端口;多个第一传输电路,每两个反相器之间耦接有所述第一传输电路,响应于测量控制信号,所述第一传输电路导通或者关断;其中,在向各个反相器中的P型MOSFET和N型MOSFET的栅极和源极之间分别施加不同持续时间的预设的高压后,所述多个反相器的器件延迟相对变化率用于确定MOSFET的BTI性能模型。
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