[发明专利]抛光组件及其抛光工艺方法在审

专利信息
申请号: 201711343704.9 申请日: 2017-12-15
公开(公告)号: CN108098570A 公开(公告)日: 2018-06-01
发明(设计)人: 冯光建;夏秋良 申请(专利权)人: 苏州新美光纳米科技有限公司
主分类号: B24B37/34 分类号: B24B37/34;B24B1/00
代理公司: 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 代理人: 周宇
地址: 215000 江苏省苏州市工业园区金鸡湖大道*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提供了一种抛光组件及其抛光工艺方法,涉及半导体技术领域,为解决现有抛光工艺过程中,待加工件的外表面在抛光液和游星轮内壁的挤压下也被抛光,使得抛光件的原貌或者抛光件的外表面形貌被抛光的问题而设计。涉及一种抛光组件,包括抛光件,抛光件的外侧面向外包覆有保护层。还涉及一种抛光工艺方法,包括上述的抛光组件。该抛光组件及其抛光工艺方法不会使抛光件的外侧面的尺寸发生任何改变,从而达到抛光件的外侧面不受或者少受抛光影响的要求。
搜索关键词: 抛光件 抛光组件 抛光工艺 抛光 半导体技术领域 抛光工艺过程 形貌 待加工件 保护层 抛光液 外包覆 外侧面 游星轮 内壁 挤压
【主权项】:
1.一种抛光组件,用于抛光工艺中,其特征在于,包括:抛光件(200),所述抛光件(200)的外侧面依次向外包覆有胶膜层(110)和承载膜层(120),所述胶膜层(110)和所述承载膜层(120)粘结固定,所述胶膜层(110)粘结在所述抛光件(200)的外侧面。
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