[发明专利]一种提高峰值电流的肖特基二极管的结构及制备方法在审
申请号: | 201711346248.3 | 申请日: | 2017-12-15 |
公开(公告)号: | CN107887450A | 公开(公告)日: | 2018-04-06 |
发明(设计)人: | 张瑜洁;陈彤;苗青;李昀佶;刘刚;何佳;高怡瑞 | 申请(专利权)人: | 泰科天润半导体科技(北京)有限公司 |
主分类号: | H01L29/872 | 分类号: | H01L29/872;H01L29/45;H01L29/47;H01L21/04 |
代理公司: | 福州市鼓楼区京华专利事务所(普通合伙)35212 | 代理人: | 王美花 |
地址: | 100000 北京市海淀区西小口路66号中关村东升科技园*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供一种提高峰值电流的肖特基二极管的结构及制备方法,通过在有源注入区的表面引入高掺杂浓度的薄层注入区,使此薄层注入区和正面接触金属形成良好的欧姆接触,在正向浪涌电流条件下,PN结参与导电,器件的峰值电流得到提高,从而降低器件导通压降,使器件具备抗浪涌能力,提高器件可靠性。 | ||
搜索关键词: | 一种 提高 峰值 电流 肖特基 二极管 结构 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种提高峰值电流的肖特基二极管的结构,包括由下到上顺次设置的背面接触金属、第一导电类型的衬底以及第一导电类型的漂移层和场氧层;还包括正面接触金属,所述正面接触金属分别和所述场氧层、漂移层相接触;所述漂移层设有第二导电类型的JTE注入区以及复数个第二导电类型的有源注入区;其特征在于:还包括第二导电类型的薄层注入区,所述薄层注入区设于所述有源注入区上表面且和所述正面接触金属形成欧姆接触,同时所述正面接触金属与所述漂移层的其它表面区域形成肖特基接触。
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