[发明专利]成像设备及其制造方法有效
申请号: | 201711346764.6 | 申请日: | 2017-12-15 |
公开(公告)号: | CN108227431B | 公开(公告)日: | 2022-04-15 |
发明(设计)人: | 塚田隆正;横井淳一 | 申请(专利权)人: | 兄弟工业株式会社 |
主分类号: | G03G15/04 | 分类号: | G03G15/04;G03G21/16 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 黄刚;车文 |
地址: | 日本爱知*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 提供成像设备及其制造方法,成像设备包括鼓单元和曝光头。鼓单元包括感光鼓。曝光头包括:沿着感光鼓的旋转轴线方向对准的多个光发射器;将来自光发射器的光聚焦在感光鼓上的透镜阵列;被构造为支撑光发射器和透镜阵列的头框架,头框架具有面向旋转轴线的基准面;实心间隔器,具有第一面和第二面,第一面面向基准面,第二面接触鼓单元;和介入基准面和第一面之间的片材状间隔器。 | ||
搜索关键词: | 成像 设备 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种成像设备,包括:鼓单元,所述鼓单元包括感光鼓;和曝光头,所述曝光头包括:多个光发射器,所述多个光发射器沿着所述感光鼓的旋转轴线方向对准;透镜阵列,所述透镜阵列将来自所述光发射器的光聚焦在所述感光鼓上;头框架,所述头框架支撑所述光发射器和所述透镜阵列,所述头框架具有基准面,所述基准面面向所述旋转轴线;实心间隔器,所述实心间隔器具有第一面和第二面,所述第一面面向所述基准面,所述第二面接触所述鼓单元;和片材状间隔器,所述片材状间隔器被介入在所述基准面和所述第一面之间。
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