[发明专利]光掩膜承载盒以及光掩膜装置的承载及清洁方法在审
| 申请号： | 201711348626.1 | 申请日： | 2017-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN109932866A | 公开（公告）日： | 2019-06-25 |
| 发明（设计）人： | 刘子汉;林重宏;温志伟 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/66 | 分类号： | G03F1/66;G03F1/82 |
| 代理公司： | 南京正联知识产权代理有限公司 32243 | 代理人： | 顾伯兴 |
| 地址： | 中国台湾新竹科*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供一种光掩膜承载盒用以承载光掩膜装置，光掩膜承载盒包括壳体以及抽气装置。壳体包括容置空间、进气孔以及抽气口，光掩膜装置设置于容置空间内，且进气孔经配置以将清洁气体注入壳体的容置空间内。抽气装置设置于壳体上，以对容置空间进行抽气。本发明实施例更提供一种光掩膜装置的承载及清洁方法。 | ||
| 搜索关键词： | 光掩膜 容置空间 壳体 承载盒 抽气装置 进气孔 承载 清洁气体 装置设置 清洁 抽气口 抽气 配置 | ||
【主权项】：
1.一种光掩膜承载盒，用以承载光掩膜装置，其特征在于，包括：壳体，包括容置空间、进气孔以及抽气口，所述光掩膜装置设置于所述容置空间内，且所述进气孔经配置以将清洁气体注入所述壳体的所述容置空间内；以及抽气装置，设置于所述壳体上并对应所述抽气口，以对所述容置空间进行抽气。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
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