[发明专利]防蓝光结构、显示装置以及防蓝光调节方法有效
申请号: | 201711349853.6 | 申请日: | 2017-12-15 |
公开(公告)号: | CN107817637B | 公开(公告)日: | 2020-09-22 |
发明(设计)人: | 刘玉琪;郭远辉;刘佳;吴兵兵 | 申请(专利权)人: | 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/1514 | 分类号: | G02F1/1514;G02F1/153;G02F1/155 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 彭久云 |
地址: | 230012 安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 一种防蓝光结构、显示装置以及防蓝光调节方法。防蓝光结构包括第一透明介质层、第二透明介质层和电致折射率调节层。第二透明介质层设置于第一透明介质层的一侧;电致折射率调节层设置于第一透明介质层和第二透明介质层之间。所述电致折射率调节层配置为在其靠近第一透明介质层的第一侧和靠近第二透明介质层的第二侧之间施加电场的作用下,改变对从其透射的蓝光的折射率改变。该防蓝光结构能够对不同波长的蓝光进行防止,允许用户能够选择性地开启及关闭防蓝光功能以及根据个人需要调节防蓝光的透过率。 | ||
搜索关键词: | 防蓝光 结构 显示装置 以及 调节 方法 | ||
【主权项】:
一种防蓝光结构,包括:第一透明介质层;第二透明介质层,设置于所述第一透明介质层的一侧;以及电致折射率调节层,设置于所述第一透明介质层和所述第二透明介质层之间;其中,所述电致折射率调节层配置为在其靠近所述第一透明介质层的第一侧和靠近所述第二透明介质层的第二侧之间电场的作用下,改变对从其透射的蓝光的折射率。
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