[发明专利]一种复合膜及其制备方法与应用有效

专利信息
申请号: 201711350174.0 申请日: 2017-12-15
公开(公告)号: CN109935701B 公开(公告)日: 2021-02-19
发明(设计)人: 程陆玲;杨一行 申请(专利权)人: TCL科技集团股份有限公司
主分类号: H01L51/48 分类号: H01L51/48;H01L51/42;H01L51/46;B82Y30/00
代理公司: 深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙) 44268 代理人: 王永文;刘文求
地址: 516006 广东省惠州市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开一种复合膜及其制备方法与应用,方法包括步骤:提供富勒醇,将所述富勒醇与硅烷偶联剂混合后脱水,得到硅烷偶联剂修饰的富勒烯;提供零维宽带隙纳米颗粒溶液;提供基板,将零维宽带隙纳米颗粒溶液沉积在所述基板上,形成第一薄膜;在所述第一薄膜上沉积含所述硅烷偶联剂修饰的富勒烯碱性溶液,形成第二薄膜,并在所述第一薄膜和第二薄膜的结合界面处,使位于第一薄膜表面的零维宽带隙纳米颗粒中的表面金属元素与位于第二薄膜表面的富勒烯中的硅烷偶联剂中的氨基或巯基结合,制备得到所述复合膜。本发明方法操作简单,易于重复,并且能够有效的降低零维宽带隙纳米颗粒之间的结势垒,从而提高复合膜的导电和光电响应速率。
搜索关键词: 一种 复合 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
1.一种复合膜的制备方法,其特征在于,包括步骤:提供富勒醇,将所述富勒醇与硅烷偶联剂混合后脱水,得到硅烷偶联剂修饰的富勒烯,所述硅烷偶联剂的通式为YSiX3,其中X为烷氧基,Y为非水解基团,Y中碳链末端含有氨基取代基或巯基取代基;提供零维宽带隙纳米颗粒溶液;提供基板,将零维宽带隙纳米颗粒溶液沉积在所述基板上,形成第一薄膜;在所述第一薄膜上沉积含所述硅烷偶联剂修饰的富勒烯碱性溶液,形成第二薄膜,并在所述第一薄膜和第二薄膜的结合界面处,使位于第一薄膜表面的零维宽带隙纳米颗粒中的表面金属元素与位于第二薄膜表面的富勒烯中的硅烷偶联剂中的氨基或巯基结合,制备得到所述复合膜。
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