[发明专利]一种用于制备抛光垫的模具系统及其使用方法有效

专利信息
申请号: 201711354504.3 申请日: 2017-12-15
公开(公告)号: CN108215028B 公开(公告)日: 2019-12-31
发明(设计)人: 朱顺全;李翔;刘敏 申请(专利权)人: 湖北鼎龙控股股份有限公司
主分类号: B29C39/26 分类号: B29C39/26;B29C39/38;B29C39/44;B24D18/00
代理公司: 11002 北京路浩知识产权代理有限公司 代理人: 王莹;吴欢燕
地址: 430057 湖北省*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明提供一种用于制备抛光垫的模具系统及其使用方法,包括用于容置反应物料的模具,所述模具包括基底和中空柱体结构的外壁,所述基底和外壁之间、且位于所述基底上方的空间构成用于容置所述反应物料的模腔;所述基底上设有第一温度传感器,所述第一温度传感器用于实时监测所述基底上端面的温度;所述外壁上设置有第二温度传感器,所述第二温度传感器用于实时监测所述外壁内端面的温度;所述第一温度传感器与所述第二温度传感器均与第一数字控制系统相连,所述第一数字控制系统根据所述基底上端面的温度和所述外壁内端面的温度实时调控对所述模具的加热状态。本发明的用于制备抛光垫的模具系统,结构简单,控温更准确、效率更高。
搜索关键词: 基底 外壁 第二温度传感器 第一温度传感器 模具系统 抛光垫 制备 模具 数字控制系统 反应物料 实时监测 上端 内端 容置 中空柱体结构 加热状态 实时调控 控温 模腔
【主权项】:
1.一种用于制备抛光垫的模具系统,其特征在于,包括用于容置反应物料的模具,所述模具包括中空的基底和中空结构的外壁,所述外壁位于所述基底上侧、且与所述基底的上端面接触,所述基底上设有第一温度传感器,所述第一温度传感器用于实时监测所述基底上端面的温度;/n所述外壁上设置有第二温度传感器,所述第二温度传感器用于实时监测所述外壁内端面的温度;/n所述基底和外壁之间、且位于所述基底上方的空间构成用于容置所述反应物料的模腔;/n所述基底内设有内部流通有第一导热介质的第一管道,所述外壁内设有内部流通有第二导热介质的第二管道,所述第一导热介质由第一温度调节装置调节温度,所述第二导热介质由第二温度调节装置调节温度;/n所述第一温度调节装置与第一数字控制系统相连,所述第二温度调节装置与第二数字控制系统相连,所述第一数字控制系统用于基于所述基底上端面的温度调整所述第一导热介质的温度,所述第二数字控制系统用于基于所述外壁内端面的温度调整所述第二导热介质的温度;/n还包括设置于所述模具的上方、用于降低所述反应物料表面温度的抽风罩;所述抽风罩的抽风口面向所述模腔,所述抽风罩的罩体下端固定有面板,所述面板平行于所述基底,且所述面板上均匀分布有多个通孔。/n
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