[发明专利]一种防雾镜片镀膜方法在审
申请号: | 201711354763.6 | 申请日: | 2017-12-15 |
公开(公告)号: | CN108060396A | 公开(公告)日: | 2018-05-22 |
发明(设计)人: | 吴晓彤 | 申请(专利权)人: | 奥特路(漳州)光学科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/30 | 分类号: | C23C14/30;C23C14/18;C23C14/10;C23C14/08;C23C14/06 |
代理公司: | 福州君诚知识产权代理有限公司 35211 | 代理人: | 翁志霖 |
地址: | 360000 福建省漳*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本发明涉及一种防雾镜片镀膜方法,包括以下步骤:1)对基片进行清洗、干燥;2)分别对基片的内、外两个表面进行镀膜:分别对双面镀第一膜层、分别对双面镀第二膜层、分别对双面镀第三膜层、分别对双面镀第四膜层、分别对双面镀第五膜层、分别对双面镀第六膜层、分别对双面镀第七膜层和分别对双面镀第八膜层。本发明的镜片镀有的多个膜层能有效防雾,同时金属层能够有效地提升清晰度和防眩光防蓝光效果,从而提高镜片的整体清晰度,对于视觉的清晰度和真实性有着很好的贡献,能有效缓解视觉疲劳。 | ||
搜索关键词: | 一种 镜片 镀膜 方法 | ||
【主权项】:
1.一种防雾镜片镀膜方法,所述镜片包括由树脂或玻璃成型的基片,所述基片的内、外两个表面从里到外对称依序设有第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层、第五膜层、第六膜层、第七膜层和第八膜层;所述第一膜层、第三膜层和第五膜层均为二氧化硅层,厚度均为60-90nm;所述第二膜层、第四膜层和第六膜层均为五氧化三钛层,厚度均为20-80nm;所述第七膜层为金属层,厚度为25-40nm;所述第八膜层为氟化物层,厚度为3-10nm,其特征在于:所述基片由树脂成型时,所述镀膜方法具体包括以下步骤:1)对基片进行清洗、干燥;2)分别对基片的内、外两个表面进行镀膜;A、分别对双面镀第一膜层:将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3 帕,并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃,采用电子枪轰击第一膜层的膜材,第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基片的外表面,同时控制第一膜层蒸镀的速率为7Å/S,第一膜层最终形成后的厚度为60-90nm;其中,所述第一膜层的膜材为二氧化硅,形成二氧化硅层;B、分别对双面镀第二膜层:保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3 帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃,采用电子枪轰击第二膜层的膜材,第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面,同时控制第二膜层蒸镀的速率为2.5Å/S,第二膜层最终形成后的厚度为20-80nm;其中,所述第二膜层的膜材为五氧化三钛,形成五氧化三钛层;C、分别对双面镀第三膜层:保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3 帕,并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃,采用电子枪轰击第三膜层的膜材,第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面,同时控制第三膜层蒸镀的速率为7Å/S,第三膜层最终形成后的厚度为60-90nm;其中,所述第三膜层的膜材为二氧化硅,形成二氧化硅层;D、分别对双面镀第四膜层:保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3 帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃,采用电子枪轰击第四膜层的膜材,第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面,同时控制第四膜层蒸镀的速率为2.5Å/S,第四膜层最终形成后的厚度为20-80nm;其中,所述第四膜层的膜材为五氧化三钛,形成五氧化三钛层;E、分别对双面镀第五膜层:保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3 帕,并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃,采用电子枪轰击第五膜层的膜材,第五膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层的表面,同时控制第五膜层蒸镀的速率为7Å/S,第五膜层最终形成后的厚度为60-90nm;其中,所述第五膜层的膜材为二氧化硅,形成二氧化硅层;F、分别对双面镀第六膜层:保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3 帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃,采用电子枪轰击第六膜层的膜材,第六膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层的表面,同时控制第六膜层蒸镀的速率为2.5Å/S,第六膜层最终形成后的厚度为20-80nm;其中,所述第六膜层的膜材为五氧化三钛,形成五氧化三钛层;G、分别对双面镀第七膜层:保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3 帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃,采用电子枪轰击第七膜层的膜材,第七膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤F中第六膜层的表面,同时控制第七膜层蒸镀的速率为1Å/S,第七膜层最终形成后的厚度为25-40nm;其中,所述第七膜层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金,形成金属层;H、镀第八膜层:保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3 帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃,采用电阻加热第八膜层的膜材,第八膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤G中第七膜层的表面,同时控制第八膜层蒸镀的速率为1.5Å/S,第八膜层最终形成后的厚度为3-10nm;其中,所述第八膜层的膜材为氟化镁,形成氟化物层。
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