[发明专利]一种日式低温陶瓷釉及其应用方法在审
申请号: | 201711355887.6 | 申请日: | 2017-12-16 |
公开(公告)号: | CN109928625A | 公开(公告)日: | 2019-06-25 |
发明(设计)人: | 叶剑 | 申请(专利权)人: | 叶剑 |
主分类号: | C03C8/00 | 分类号: | C03C8/00;C04B41/86 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 333000 江西省景德*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | 本发明公开一种日式低温陶瓷釉及其应用方法,其特征在于:所述日式低温陶瓷釉原料配方的重量百分比组成为:黄蜡石9~18%、江东土8~14%、滑石10~18%、方解石12~19%、钾长石27~35%、石英7~17%、氧化铝2~5%。本发明通过科学的原料配比和制备工艺研制出了瓷质釉面柔和、典雅的日式低温陶瓷产品,因此具有广阔的市场前景。 | ||
搜索关键词: | 低温陶瓷 方解石 滑石 重量百分比 瓷质釉面 原料配比 原料配方 制备工艺 钾长石 氧化铝 黄蜡 石英 应用 柔和 | ||
【主权项】:
1.一种日式低温陶瓷釉及其应用方法,其特征在于:所述日式低温陶瓷釉原料配方的重量百分比组成为:黄蜡石 9~18%、江东土 8~14%、滑石10~18%、方解石 12~19%、钾长石27~35%、石英7~17%、氧化铝2~5%。
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