[发明专利]测量系统有效

专利信息
申请号: 201711360264.8 申请日: 2017-12-15
公开(公告)号: CN108225190B 公开(公告)日: 2020-05-05
发明(设计)人: N.哈弗坎普 申请(专利权)人: 卡尔蔡司工业测量技术有限公司
主分类号: G01B11/02 分类号: G01B11/02
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 邱军;王蕊瑞
地址: 德国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及对物体进行尺寸测量的测量系统,该测量系统包括:接纳有待测量的物体的载物体;多个光学标记,光学标记被安排在载物体和/或有待测量的物体处;对有待测量的物体进行触觉扫描、光学扫描、和/或断层扫描的第一传感器,第一传感器生成第一测量信号;借助于光学标记来捕获有待测量的物体的空间取向和位置的第二光学传感器,第二传感器生成第二测量信号,第二测量信号包含关于光学标记的位置和空间取向的信息,并且其中,第二传感器经由机械刚性的连接而连接到第一传感器上;以及评估单元,评估单元配置成根据第二测量信号来确定有待测量的物体相对于第一传感器的位置和空间取向,并且根据第一测量信号来确定有待测量的物体的几何形状。
搜索关键词: 测量 系统
【主权项】:
1.一种用于对物体(14)进行尺寸测量的测量系统(10),所述测量系统包括:‑用于接纳所述有待测量的物体(14)的载物体(12);‑多个光学标记(40),所述光学标记被安排在所述载物体(12)和/或所述有待测量的物体(14)处;‑用于对所述有待测量的物体(14)进行触觉扫描、光学扫描、和/或断层扫描的第一传感器(30),其中,所述第一传感器(30)生成第一测量信号;‑用于借助于所述光学标记(40)来捕获所述有待测量的物体(14)的空间取向和位置的第二光学传感器(32),其中,所述第二传感器(32)生成第二测量信号,所述第二测量信号包含关于所述光学标记(40)的位置和空间取向的信息,并且其中,所述第二传感器(32)经由机械刚性的连接而连接到所述第一传感器(30)上;以及‑评估单元(36),所述评估单元被配置成用于根据所述第二测量信号来确定所述有待测量的物体(14)相对于所述第一传感器(30)的位置和空间取向,并且用于根据所述第一测量信号来确定所述有待测量的物体(14)的几何形状。
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