[发明专利]一种用于熔石英的抛光组合物有效
| 申请号： | 201711361111.5 | 申请日： | 2017-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN108148507B | 公开（公告）日： | 2020-12-04 |
| 发明（设计）人： | 潘国顺;周艳;罗海梅;陈高攀;邹春莉;罗桂海;徐莉 | 申请（专利权）人： | 清华大学;深圳清华大学研究院 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 廖元秋 |
| 地址： | 100084*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种用于熔石英的抛光组合物，属于光学先进制造技术领域。本发明所述组合物包括磨料、抛光促进剂、抛光平衡剂、pH调节剂和水，所述磨料为氧化硅或\和氧化铝,所述抛光促进剂为带羟基的一元或多元酸及其盐，所述抛光平衡剂为纤维素类和芳基磺酸类的混合物，所述pH调节剂为无机酸类,所述抛光组合物的pH值为0.5‑5。本发明提供的抛光液主要适用于光学先进制造中熔石英超精表面抛光，具有抛光去除速率高、抛光稳定性好的特点，经其抛光后的熔石英表面超光滑，无划痕、凹坑等表面缺陷，表面粗糙度Rq小于0.1纳米。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 石英 抛光 组合 | ||
【主权项】：
一种用于熔石英的抛光组合物，其特征在于，所述组合物包括由磨料、抛光促进剂、抛光平衡剂、pH调节剂和水混合而成，所述磨料为氧化硅或\和氧化铝,所述抛光促进剂为带羟基的一元或多元酸及其盐，所述抛光平衡剂为纤维素类和芳基磺酸类的混合物，所述pH调节剂为无机酸类,该抛光组合物的pH值为0.5‑5。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于清华大学;深圳清华大学研究院，未经清华大学;深圳清华大学研究院许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201711361111.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：抛光介质及其制备方法与应用
- 下一篇：一种用于皮革制品光亮剂新材料的制备方法
