[发明专利]一种用于纳米位移测量的修正方法

摘要

本发明公开了一种用于纳米位移测量的修正方法，该方法对光栅偏振调制纳米位移测量方法的计算模型进行了修正，通过高精度纳米位移台进行扫描标定，拟合计算确定修正模型的参数，再应用最优化算法得出位移量。本方法综合考虑了测量系统中的光学成像光强变化、光栅周期的不一致性以及电信号处理过程非线性的误差，更加符合测量系统的实际工程使用情况，测量准确性更高。

主权项

1.一种用于纳米位移测量的修正方法，其特征在于，包括如下步骤：/n步骤1、记录光栅偏振调制纳米位移测量系统输出电压在待测物体位移过程中的数据，分析输出电压与待测物位移之间的关系曲线，建立计算模型的数学表达式；/n步骤2、采用高精度纳米位移台进行扫描并记录位移数据，同时记录测量系统输出电压值，应用建立的数学计算公式对位移数据、电压值进行拟合，获得计算公式中的未知参数；/n步骤3、将求得的参数代入计算公式，根据测量系统测得的电压数值，应用最优化算法即可求得待测位移量；/n光栅偏振调制纳米位移测量系统由光源、照明镜头、物方光栅、物方成像镜头、像方成像镜头、像方光栅、偏振调制组、SAVART、探测物镜和光电探测器组成，光源发出的光经照明镜头准直后均匀照明物方光栅，物方光栅通过成像镜头在待测物体表面成像，再通过像方成像镜头在像方光栅平面成二次像，经偏振调制组加载高频载波，最后通过探测物镜聚焦后由光电探测器接收，进一步通过电路进行放大、信号解调、模数转换后由计算机输出电压信号。/n