[发明专利]一种Si掺杂二氧化钛纳米管阵列光阳极的制备方法在审

专利信息
申请号: 201711373973.X 申请日: 2017-12-19
公开(公告)号: CN108277501A 公开(公告)日: 2018-07-13
发明(设计)人: 董振标;丁冬雁;李婷;宁聪琴 申请(专利权)人: 上海交通大学
主分类号: C25B11/06 分类号: C25B11/06;C25B11/10;C25B1/04;C25D11/26;B82Y40/00
代理公司: 上海申浩律师事务所 31280 代理人: 乐卫国
地址: 200030 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种Si掺杂二氧化钛纳米管阵列光阳极的制备方法。通过阳极氧化Si质量分数为1%~10%的Ti‑Si合金制得0.5wt.%~2.0wt.%Si掺杂二氧化钛纳米管,所得纳米管阵列在500~625℃下热处理退火2小时得到锐钛矿晶型结构或锐钛矿/金红石混合晶型结构的Si掺杂二氧化钛纳米管阵列光阳极。本发明的Si掺杂二氧化钛纳米管阵列在可见光区域表现出较强的吸收,电极稳定性好,光解水制氢效率可高达0.57%,光解水制氢效率明显优于未掺杂二氧化钛纳米管阵列光阳极。
搜索关键词: 二氧化钛纳米管阵列 光阳极 掺杂 光解水制氢 制备 二氧化钛纳米管 退火 电极稳定性 可见光区域 纳米管阵列 锐钛矿晶型 热处理 混合晶型 阳极氧化 质量分数 合金制 金红石 锐钛矿 未掺杂 吸收 表现
【主权项】:
1.一种Si掺杂二氧化钛纳米管阵列光阳极的制备方法,其特征在于,通过阳极氧化Ti‑Si合金制得Si掺杂二氧化钛纳米管,然后经过热处理退火得到0.5wt.%~2.0wt.%Si掺杂二氧化钛纳米管阵列光阳极。
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