[发明专利]一种无痕抛光磨块的配方及制备方法在审
| 申请号： | 201711376005.4 | 申请日： | 2017-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN108098610A | 公开（公告）日： | 2018-06-01 |
| 发明（设计）人： | 李士欣 | 申请（专利权）人： | 广东纳德新材料有限公司 |
| 主分类号： | B24D18/00 | 分类号： | B24D18/00;C09G1/00 |
| 代理公司： | 广州市南锋专利事务所有限公司 44228 | 代理人： | 何海帆 |
| 地址： | 528225 广东省佛山*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种无痕抛光磨块的配方及制备方，本发明提供的无痕抛光磨块的配方，其按质量份计包括以下物质，金刚石10份；氧化铝9份；氧化锌14份；氧化钡8份；酚醛结合剂41份；橡胶改性剂7份；试剂级润滑剂1份；纳米级上光剂10份。采用本发明获得的产品的抛光效果和其它的同类产品的不同点是抛光效果好，抛光表面没有磨印，没有水波纹，清晰通透感很强；抛光时，不需要很大的压力就能抛出很好的效果，电耗低，在原基础上可以节约百分之四十的电量。且本发明获得的产品上光快，可以在短时间内抛出很好的效果，大大地缩短了工人的劳动强度。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光磨块 无痕 配方 抛光效果 制备 橡胶改性剂 金刚石 电耗 抛光表面 结合剂 纳米级 润滑剂 上光剂 水波纹 氧化钡 氧化锌 质量份 抛光 氧化铝 上光 酚醛 通透 电量 节约 清晰 | ||
【主权项】：
1.一种无痕抛光磨块的配方，其特征在于：其按质量份计包括以下物质，金刚石 10份；氧化铝 9份；氧化锌 14份；氧化钡 8份；酚醛结合剂 41份；橡胶改性剂 7份；试剂级润滑剂 1份；纳米级上光剂 10份。
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