[发明专利]反蛋白石结构防伪转印膜有效
| 申请号： | 201711377678.1 | 申请日： | 2017-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN108099435B | 公开（公告）日： | 2019-10-15 |
| 发明（设计）人： | 叶常青 | 申请（专利权）人： | 苏州中科纳福材料科技有限公司 |
| 主分类号： | B41M5/03 | 分类号： | B41M5/03;B41M5/025;B41M3/14 |
| 代理公司： | 苏州谨和知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32295 | 代理人： | 叶栋 |
| 地址： | 215024 江苏省苏州市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种功能性反蛋白石结构防伪转印膜，属于反蛋白石结构的硫化银纳米团簇光子晶体在防伪领域的具体应用。本发明的防伪转印膜，包括组装基底、转印层，其特征在于，还包括硫化银纳米团簇光子晶体层；其中，所述光子晶体层位于所述组装基底与转印层之间，所述光子晶体层与转印层的相同位置上带有相同的立体外观防伪图案。本发明结合了硫化银量子点和光子晶体的性质，制备了具有防伪性能的反蛋白石结构的硫化银纳米团簇光子晶体转印膜。由硫化银纳米团簇组装成的光子晶体相较于硫化银量子点具有更加优良的性能：荧光性能得到增强，且激发峰蓝移至700nm。受紫光辐照后，呈现出带有光泽感的红色。 | ||
| 搜索关键词： | 反蛋白石结构 硫化银纳米 转印膜 团簇光子 转印层 防伪 光子晶体层 组装 光子晶体 量子点 硫化银 基底 防伪领域 防伪图案 防伪性能 立体外观 辐照 光泽感 晶体层 蓝移 团簇 荧光 紫光 制备 激发 应用 | ||
【主权项】：
1.一种反蛋白石结构防伪转印膜，包括组装基底、转印层，其特征在于，还包括硫化银纳米团簇光子晶体层；其中，所述光子晶体层位于所述组装基底与转印层之间，所述光子晶体层与转印层上压印有相同的立体外观的防伪图案；所述防伪转印膜还包括介于所述组装基底与光子晶体层之间的离型层；所述离型层的表面张力系数介于28‑58dyn/cm，厚度介于2‑20μm；所述离型层由蜡质离型剂制成。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州中科纳福材料科技有限公司，未经苏州中科纳福材料科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201711377678.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种包装袋二维码的印刷方法
- 下一篇：智能插件式订书机
