[发明专利]用于光学邻近效应修正的计算光刻方法及系统

摘要

本发明提供了一种用于光学邻近效应修正的计算光刻方法。所述计算光刻方法将输入的版图设计文件按照工艺因子的值分解成第一布局部分和第二布局部分，其中，所述第一布局部分的工艺因子低于预设阈值，所述第二布局部分的工艺因子大于所述预设阈值；接着对所述第一布局部分和所述第二布局部分分别进行处理；然后，匹配及合并已处理的所述第一布局部分和所述第二布局部分。由于对第一布局部分和第二布局部分分开进行处理，提高了处理品质，因而不再需要迭代执行检验光学邻近效应修正步骤和热点修正步骤，从而提高了版图设计文件的输出速度。本发明还提供一种用于光学邻近效应修正的计算光刻系统。

主权项

1.一种用于光学邻近效应修正的计算光刻方法，包括：分解步骤，所述分解步骤包括将输入的版图设计文件按照工艺因子的值分解为第一布局部分和第二布局部分，其中，所述第一布局部分的工艺因子低于预设阈值，且所述第二部分的工艺因子大于所述预设阈值；处理步骤，所述处理步骤包括分别处理所述第一布局部分和所述第二布局部分；以及匹配及合并步骤，所述匹配及合并步骤包括匹配及合并已处理的所述第一布局部分和所述第二布局部分。