[发明专利]光处理装置、涂敷、显影装置、光处理方法和存储介质

摘要

本发明提供一种在利用多个发光区块形成带状的照射区域来对基片进行光处理时，能够将照射区域的长度方向的照度分布模式容易地高精度地调节到目标照度分布模式的技术。按每个发光区块(42)事先取得将照射区域的长度方向的位置与驱动电流的变化量引起的照度的变化量相对应的照度分布模式分布图的变化量即照度分布响应量，并将其存储到存储部中。而且，设置有运算处理部，其为了使照射区域的当前的长度方向的照度分布模式接近目标照度分布模式，基于发光区块(42)各自当前的电流指令值和存储于各发光区块的上述照度分布模式的变化量，求取(推算)各发光区块的电流指令值。

主权项

1.一种光处理装置，其特征在于，包括：用于载置要进行光处理的被处理体的载置部；用于形成在左右方向延伸的带状的照射区域的光照射单元，其中多个发光区块在左右方向上直线状排列，，每个所述发光区块包括一个或彼此串联连接的多个发光二极管；用于使所述载置部和光照射单元在前后方向彼此相对移动的移动机构；存储部，其对于各个所述发光区块，存储使照射区域的左右方向的位置与各位置的电流的变化量引起的照度的变化量相对应的照度分布模式的变化量；和运算处理部，其为了使所述照射区域的当前的长度方向的照度分布模式接近目标照度分布模式，基于所述发光区块各自当前的电流指令值和存储于所述存储部中的各发光区块的所述照度分布模式的变化量，求取各发光区块的电流指令值。