[发明专利]一种窄分布双子表面活性剂及其制备方法在审
| 申请号： | 201711382672.3 | 申请日： | 2017-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN108311056A | 公开（公告）日： | 2018-07-24 |
| 发明（设计）人： | 付远波;王亮;任凡;张静;潘琦;付艳梅;刘敏 | 申请（专利权）人： | 武汉奥克特种化学有限公司 |
| 主分类号： | B01F17/42 | 分类号： | B01F17/42;C07C41/03;C07C43/178 |
| 代理公司： | 武汉开元知识产权代理有限公司 42104 | 代理人： | 马辉 |
| 地址： | 430040 湖北省武汉市化*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种窄分布双子表面活性剂及其制备方法，该制备方法包括如下步骤：先将炔二醇与环氧乙烷按照摩尔比为1:1～20混合均匀，再加入氮杂环类催化剂在体系中温度为50～120℃，压力为0.3～0.8MPa的条件下进行加成反应，即可生成窄分布双子表面活性剂。本发明的窄分布双子表面活性剂不仅克服了传统催化剂色泽深、炔基保留率低，而且改善产品的分布特性，提高了产品的窄分布特性；还提供了一种窄分布双子表面活性剂的制备方法。 | ||
| 搜索关键词： | 双子表面活性剂 窄分布 制备 传统催化剂 窄分布特性 分布特性 环氧乙烷 加成反应 保留率 氮杂环 摩尔比 炔二醇 炔基 催化剂 | ||
【主权项】：
1.一种窄分布双子表面活性剂，其特征在于，所述窄分布双子表面活性剂的结构式如下式(I)：![]()
式(I)中，R1、R4为C2‑C12范围内的饱和烷烃；R2、R3为C1‑C4范围内的饱和烷烃；n和m之和为2～20内的整数。
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