[发明专利]一种在光刻机上实现4英寸GaN圆片曝光工艺的方法有效
| 申请号： | 201711388230.X | 申请日： | 2017-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN108008609B | 公开（公告）日： | 2020-05-05 |
| 发明（设计）人： | 刘磊;殷履文;李永康;王发稳 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第五十五研究所 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 南京君陶专利商标代理有限公司 32215 | 代理人： | 沈根水 |
| 地址： | 210016 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明是一种在光刻机上实现4英寸GaN圆片曝光工艺的方法，包括如下步骤：（1）更换找中心传感器；（2）安装、固定找中心传感器；（3）更换找平边传感器；（4）通过设计的定位块安装、固定找平边传感器；（5）设计信号处理电路，制作信号处理板，与原机电路板信号相连通；（6）设定传感器放大器信号阈值；（7）选用4英寸GaN圆片，执行圆片传输重复性测试。优点：1）所选用传感器及放大器价格低廉；2）自制传感器固定装置，冗余度高；3）调节方便，精确性和稳定性高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 实现 英寸 gan 曝光 工艺 方法 | ||
【主权项】：
1.一种在光刻机上实现4英寸GaN圆片曝光工艺的方法，其特征是该方法包括如下步骤：（1）更换找中心传感器；（2）安装、固定找中心传感器；（3）更换找平边传感器；（4）通过设计的定位块安装、固定找平边传感器；（5）设计信号处理电路，制作信号处理板，与原机电路板信号相连通；（6）设定传感器放大器信号阈值；（7）选用4英寸GaN圆片，执行圆片传输重复性测试；其中所述的光刻机采用型号为NIKON I12D type3的光刻机。
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