[发明专利]一种X射线吸收谱测量装置及测量方法在审

专利信息
申请号: 201711389552.6 申请日: 2017-12-21
公开(公告)号: CN107941836A 公开(公告)日: 2018-04-20
发明(设计)人: 刘涛;唐跃强;黄翀 申请(专利权)人: 长沙新材料产业研究院有限公司
主分类号: G01N23/223 分类号: G01N23/223
代理公司: 长沙正奇专利事务所有限责任公司43113 代理人: 郭立中
地址: 410205 湖南省*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明提供一种新型的X射线吸收谱测量装置,通过集成荧光探测装置和样品安放装置来实现,在实践中与X射线源、电流放大装置和处理器共同联用。荧光探测装置的第一探测模块为光电二极管(PIN‑diode)。在被测样品与荧光探测装置之间安置可过滤电子的过滤膜。测量装置内集成样品安放装置,采用掠入射几何,与X射线的夹角范围为1‑4°。通过大面积探测器、过滤膜、掠入射几何的结合,可实现材料X射线吸收谱的有效检测,相对于传统的探测器来说,探测灵敏度和探测效率都有大幅提升。本发明还提供一种X射线吸收谱测量方法。
搜索关键词: 一种 射线 吸收 测量 装置 测量方法
【主权项】:
一种X射线吸收谱测量装置,其特征在于:包括用于放置被测样品(20)的样品安放装置(8),所述被测样品(20)接收X射线并发出荧光信号;还包括用于探测所述荧光信号的荧光探测装置(6)以及与荧光探测装置(6)的输出电连接的处理器(10)。
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