[发明专利]一种单光子雪崩二极管探测器结构及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201711391078.0 申请日: 2017-12-21
公开(公告)号: CN108231946B 公开(公告)日: 2020-01-10
发明(设计)人: 杨冰;周伟;孙德明 申请(专利权)人: 上海集成电路研发中心有限公司;成都微光集电科技有限公司
主分类号: H01L31/107 分类号: H01L31/107;H01L31/18;H01L27/146
代理公司: 31275 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 代理人: 吴世华;陈慧弘
地址: 201210 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种单光子雪崩二极管探测器结构,包括:P型硅衬底,形成于P型硅衬底中的深N阱和深P阱,深N阱中形成有用于形成吸收光子的倍增区域的N
搜索关键词: 单光子雪崩二极管 探测器结构 引出端 深N阱 深P阱 衬底 倍增 阴极 雪崩二极管 阳极 表面覆盖 降低单元 区域形成 整个单元 保护层 填充率 光子 结深 制造 吸收
【主权项】:
1.一种单光子雪崩二极管探测器结构的制造方法,其特征在于,所述单光子雪崩二极管探测器结构从下至上包括:/nP型硅衬底;/n并列形成于P型硅衬底中的深N阱和深P阱,所述深N阱和深P阱直接对接,形成第一PN结隔离;/n所述深N阱中依次形成有N
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