[发明专利]一种光刻胶涂布系统及方法在审
| 申请号： | 201711392363.4 | 申请日： | 2017-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN107930917A | 公开（公告）日： | 2018-04-20 |
| 发明（设计）人： | 朱治国 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | B05B13/02 | 分类号： | B05B13/02;B05B12/08;B05D1/02;G03F7/16 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 | 代理人： | 智云 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种光刻胶涂布系统及方法，所述光刻胶喷涂系统包括晶圆承载台、驱动装置、光刻胶存储装置及光刻胶喷头；所述驱动装置与所述晶圆承载台连接以驱动所述晶圆承载台旋转；所述光刻胶喷头位于所述晶圆承载台上方，所述光刻胶喷头的数量为多个，每个所述光刻胶喷头均与所述光刻胶存储装置活动连接。光刻胶喷头位于晶圆承载台上方，光刻胶喷头的数量为多个，每个光刻胶喷头均与光刻胶存储装置活动连接，由此可以根据晶圆的尺寸、光刻胶均匀性设置光刻胶喷头的位置，从而使得光刻胶喷头更好的适应对于晶圆的涂布，由此能够减少光刻胶涂布的时间，减少甩出晶圆的光刻胶量，最后减少了光刻胶使用量，还减少了光刻胶涂布不良。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 胶涂布 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻胶喷涂系统，其特征在于，所述光刻胶喷涂系统包括晶圆承载台、驱动装置、光刻胶存储装置及光刻胶喷头；所述驱动装置与所述晶圆承载台连接以驱动所述晶圆承载台旋转；所述光刻胶喷头位于所述晶圆承载台上方，所述光刻胶喷头的数量为多个，每个所述光刻胶喷头均与所述光刻胶存储装置活动连接。
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