[发明专利]用于处理具有高流速的第二遍RO透过水的分流式EDI设备有效
申请号: | 201711399517.2 | 申请日: | 2011-10-03 |
公开(公告)号: | CN108097048B | 公开(公告)日: | 2021-06-22 |
发明(设计)人: | R·齐达姆巴兰;N·S·比施特;P·莱纳 | 申请(专利权)人: | 水技术国际有限责任公司 |
主分类号: | B01D61/48 | 分类号: | B01D61/48;B01D61/44 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 申发振 |
地址: | 美国宾夕*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 用于处理具有高流速的第二遍RO透过水的分流式EDI设备。我们报告一种电去离子装置(EDI,electro‑deionization),该装置有分流式布置,用于有高流速的第二遍RO透过水的纯化,在该装置中,供给水通过中央端口被供给并被改道进入有相等流速的稀释腔的每一区域,产生两束产物流。该EDI装置在堆的两个区域中有浓缩腔,与稀释腔紧邻,允许独立的水流通过该分开的区域。这种分流式设计,降低用于处理第二遍RO透过水的树脂床深度要求。这导致通过该堆的更高流速,消除压力降的限制,以及降低每单位体积水的功率消耗。 | ||
搜索关键词: | 用于 处理 具有 流速 第二 ro 透过 分流 edi 设备 | ||
【主权项】:
1.一种电去离子设备,包括:第一端板;第一电极安放板EHP,被定位成紧邻该第一端板,所述第一EHP包括两个阴极、阳离子树脂和阴离子薄膜;包括交替的浓缩腔和稀释腔的多个槽对,其中浓缩腔包括被放置在紧邻的阳离子薄膜之上的浓缩隔板;其中每一浓缩隔板包括被沿浓缩隔板的宽度方向设置的浓缩肋条分开的两个独立的浓缩区域,所述浓缩区域包括导电网,其中每一所述浓缩区域具有分开的浓缩入口端口和浓缩出口端口;和其中每一稀释腔包括稀释隔板和阴离子薄膜,其中每一稀释腔包括被沿稀释隔板的宽度方向设置的稀释肋条分开并由公共供给端口供给的两个独立的稀释区域,该公共供给端口把供给水流相等地分割到所述独立的稀释区域中,每一所述稀释区域具有与排除端口和浓缩端口分开的产物端口;第二端板;和最后的浓缩腔,在该最后的浓缩腔之后是阳离子薄膜,接着是第二EHP,被定位成紧邻该第二端板,所述第二EHP包括两个阳极和阳离子树脂介质,其中水流模式是向上水流与向下水流的组合,堆的下部按向下水流方式操作,而堆的上部按向上水流方式操作,稀释和浓缩腔遵循类似的水流模式并彼此保持同向流动。
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