[发明专利]基于化学腐蚀与熔接放电制备光纤传感器的方法在审
申请号: | 201711400448.2 | 申请日: | 2017-12-22 |
公开(公告)号: | CN108168585A | 公开(公告)日: | 2018-06-15 |
发明(设计)人: | 祝连庆;上官春梅;董明利;娄小平;李红;何巍;张雯 | 申请(专利权)人: | 北京信息科技大学 |
主分类号: | G01D5/353 | 分类号: | G01D5/353;G02B6/255 |
代理公司: | 北京律恒立业知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11416 | 代理人: | 顾珊;庞立岩 |
地址: | 100085 北京市海淀区清*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供了一种基于化学腐蚀与熔接放电法制备光纤传感器的方法,本发明提出基于氢氟酸腐蚀结合熔接放电法来制备干涉型光纤传感器,制备得到的光纤传感器具有较高的温度灵敏度,通过对所述光纤传感器的干涉谱波长漂移随温度变化规律进行了实验研究,当外界温度从30~100℃变化时,传感器灵敏度可达11.28pm/℃,波谷波长与温度呈线性关系,线性度都达到0.9886,如图4所示。该干涉型光纤传感器结构新颖、体积小、结构简单、灵敏度高、制作成本低,适合大批量生产,在温度传感领域具有巨大的应用意义。 1 | ||
搜索关键词: | 光纤传感器 熔接 制备 干涉型光纤传感器 化学腐蚀 放电 传感器灵敏度 温度变化规律 氢氟酸腐蚀 温度灵敏度 波长漂移 实验研究 温度传感 线性关系 应用意义 放电法 干涉谱 灵敏度 体积小 线性度 波长 波谷 制作 生产 | ||
【主权项】:
1.一种基于化学腐蚀与熔接放电制备光纤传感器的方法,其特征在于,包括以下步骤:
步骤一:将所述单模光纤去除涂覆层,并将光纤端面切平,固定在支架上;
步骤二:将切平的光纤端面放入氢氟酸溶液中进行腐蚀,得到光纤凹槽;
步骤三:将光纤端面从氢氟酸中取出,先放入蒸馏水中清洗,再放入超声波清洗机中清洗,防止继续腐蚀;
步骤四:利用光纤熔接机将腐蚀过的光纤端面与另一根端面切平的光纤相对熔接,得到光纤微球结构,并持续放电,得到光纤传感器。
2.根据权利要求1所述的基于化学腐蚀与熔接放电制备光纤传感器的方法,其特征在于,在步骤一中,所述单模光纤采用SMF‑28。3.根据权利要求1所述的基于化学腐蚀与熔接放电制备光纤传感器的方法,其特征在于,在步骤四中,熔接后持续放电能够有效改善光纤微球结构和其光学性能。4.一种基于化学腐蚀与熔接放电制备的光纤传感器,其特征在于,包括第一单模光纤和第二单模光纤,所述第一单模光纤末端设置有凹槽,所述第二单模光纤端面切平,所述第一单模光纤的凹槽与第二单模光纤的切平端面相对熔接形成光纤微球结构。5.根据权利要求书所述的光纤传感器,其特征在于,所述单模光纤采用SMF‑28。
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