[发明专利]孔层辅助图案生成方法及校正函数生成方法

摘要

本发明提供一种孔层辅助图案生成方法及校正函数生成方法。校正函数生成方法包括：S110：将测试光刻目标图案与内核组的第一成像内核进行卷积运算生成干涉图；S120：将测试光刻目标图案的边缘划分为多个片段，在每个片段中取一点作为相邻环境探测点；S130：计算每个片段的相邻环境探测点的成像信号值集合；S140：判断从干涉图提取的辅助图案与从测试光刻目标图案相应的连续色调掩模图上提取的辅助图案的误差是否小于预定阈值，若不小于则调整各片段的光传输率，并重复S110至S140；若小于则执行S150；S150：根据各片段的光传输率以及各片段的成像信号值集合获取光传输率与成像信号值集合之间的关系函数以作为校正函数。本发明提供的方法改进辅助图案的生成。

主权项

一种孔层辅助图案校正函数生成方法，其特征在于，包括：S110：将测试光刻目标图案与内核组的第一成像内核进行卷积运算生成干涉图；S120：将所述测试光刻目标图案的边缘划分为多个片段，在每个片段中取一点作为相邻环境探测点；S130：计算每个片段的相邻环境探测点的成像信号值集合{S1，S2，S3，…Sn}，n为正整数；S140：判断从所述干涉图提取的辅助图案与从所述测试光刻目标图案相应的连续色调掩模图上提取的辅助图案的误差是否小于预定阈值，若不小于则调整各片段的光传输率以更新所述内核组，重复步骤S110至步骤S140；若小于则执行步骤S150；S150：根据各片段的光传输率以及各片段的相邻环境探测点的成像信号值集合{S1，S2，S3，…Sn}获取光传输率与成像信号值集合之间的关系函数以作为校正函数。