[发明专利]微分相位对比显微系统与方法有效
申请号: | 201711407734.1 | 申请日: | 2017-12-22 |
公开(公告)号: | CN109780993B | 公开(公告)日: | 2021-06-22 |
发明(设计)人: | 骆远;陈锡勋 | 申请(专利权)人: | 骆远 |
主分类号: | G01B9/04 | 分类号: | G01B9/04;G01B11/24 |
代理公司: | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人: | 孙皓晨 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 一种微分相位对比显微系统与方法,该系统包括光强度调制模块、聚光透镜、物镜以及影像撷取模块。光强度调制模块用以根据控制信号将入射光场调制成具有一梯度强度分布的侦测光场。聚光透镜用以接收侦测光场,并产生一离轴光场投射至一待测物上,进而产生一待测物光场而被物镜接收。影像撷取模块用以接收待测物光场,从而产生相应强度梯度分布的一光学影像。该方法更包括有控制光强度调制模块产生沿一第一轴向光强度逐渐减少的第一梯度屏蔽、沿第一轴向光强度逐渐增加的第二梯度屏蔽、沿一第二轴向光强度逐渐减少的第三梯度屏蔽以及沿第二轴向光强度逐渐增加的第四梯度屏蔽,使影像撷取模块分别撷取对应该第一至第四梯度屏蔽的第一至第四光学影像。 | ||
搜索关键词: | 微分 相位 对比 显微 系统 方法 | ||
【主权项】:
1.一种微分相位对比显微系统,其特征在于,包括:一光源,用以产生一入射光场;一光强度调制模块,用以根据控制信号产生沿一第一轴向光强度逐渐减少的第一梯度屏蔽、沿该第一轴向光强度逐渐增加的第二梯度屏蔽、沿一第二轴向光强度逐渐减少的第三梯度屏蔽以及沿该第二轴向光强度逐渐增加的第四梯度屏蔽其中之一,以将该入射光场调制成具有一强度梯度分布的侦测光场;一聚光透镜,设置于该光强度调制模块的一侧,使得该光强度调制模块位于该聚光透镜的傅立叶平面上,该聚光透镜用以接收该侦测光场,并产生一离轴光场投射至一待测物上,进而产生一测物光场;一物镜,设置于该聚光透镜的一侧,使该待侧物位于该物镜的焦距上,该物镜接收该测物光场;以及一影像撷取模块,与该物镜耦接,用以接收该测物光场,从而产生相应该强度梯度分布的一光学影像。
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