[发明专利]一种弧形电极等离子体增强化学气相沉积装置在审
申请号: | 201711416199.6 | 申请日: | 2017-12-25 |
公开(公告)号: | CN108315722A | 公开(公告)日: | 2018-07-24 |
发明(设计)人: | 李中华;周晖;何延春;王志民;郑军;马占吉 | 申请(专利权)人: | 兰州空间技术物理研究所 |
主分类号: | C23C16/54 | 分类号: | C23C16/54;C23C16/513 |
代理公司: | 北京理工大学专利中心 11120 | 代理人: | 高燕燕 |
地址: | 730000 甘*** | 国省代码: | 甘肃;62 |
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摘要: | 本发明提供一种弧形电极等离子体化学气相沉积装置,能够避免板间电缆与电极的相对滑动,消除了划痕缺陷。该装置的放卷室、镀膜室、收卷室三个腔室相连,形成真空腔体,真空泵与所述真空腔体相连,形成抽气系统;卷绕机构与纠偏机构相连,圆形电极和弧形电极安装在镀膜室内,基底材料紧贴圆形电极表面并与圆形电极同步转动;送气单元、射频功率源与弧形电极相连,送气单元将工作气体送入圆形电极与弧形电极之间,在射频功率源的作用下,在圆形电极和弧形电极之间产生等离子体,基膜紧贴在圆形电极上,通过卷绕机构和纠偏机构控制基膜的运动,在基膜上沉积涂层。 | ||
搜索关键词: | 弧形电极 圆形电极 基膜 射频功率源 纠偏机构 卷绕机构 送气单元 真空腔体 紧贴 等离子体增强化学气相沉积装置 等离子体化学气相沉积装置 等离子体 沉积涂层 抽气系统 工作气体 划痕缺陷 基底材料 三个腔室 同步转动 相对滑动 电极 镀膜室 放卷室 收卷室 真空泵 镀膜 送入 电缆 室内 | ||
【主权项】:
1.一种弧形电极等离子体化学气相沉积装置,其特征在于,该装置由放卷室,卷绕机构,离子源,圆形电极,镀膜室,收卷室,纠偏机构,真空系统,弧形电极,送气单元,射频功率源组成;其中,放卷室、镀膜室、收卷室三个腔室相连,形成真空腔体,真空泵与所述真空腔体相连,形成抽气系统;卷绕机构与纠偏机构相连,圆形电极和弧形电极安装在镀膜室内,基底材料紧贴圆形电极表面并与圆形电极同步转动;送气单元将工作气体送入圆形电极与弧形电极之间,在射频功率源的作用下,在圆形电极和弧形电极之间产生等离子体,基膜紧贴在圆形电极上,通过卷绕机构和纠偏机构控制基膜的运动,在基膜上沉积涂层。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的