[发明专利]一种碳包覆超薄暴露(010)晶面单晶二氧化钛纳米带及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201711418910.1 申请日: 2017-12-25
公开(公告)号: CN107973342A 公开(公告)日: 2018-05-01
发明(设计)人: 赵才贤;陈烽;兰富军;李靖娥;罗和安 申请(专利权)人: 湘潭大学
主分类号: C01G23/053 分类号: C01G23/053;C01B32/15;B82Y30/00;B82Y40/00;C01B3/04
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 41110*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明公开了一种碳包覆超薄暴露(010)晶面单晶二氧化钛纳米带及其制备方法,其特征在于,二氧化钛纳米带的厚度为2~5nm,宽度为10~20nm,晶型为单晶锐钛矿,暴露(010)晶面;碳包覆层为石墨化碳层,厚度约为1‑5nm。其制备过程包括a)将P25、强碱溶液及(或)小分子配体进行水热反应。反应结束后,用含小分子配体的酸溶液酸化、去离子水洗涤,制得超薄钛酸纳米带;b)在惰性气体下,将超薄钛酸纳米带进行热处理,即制得碳包覆超薄暴露(010)晶面单晶TiO2纳米带。本发明的制备方法具有制备工艺简单、生产成本低等优势。采用本发明方法制备碳改性TiO2纳米带具有优异的光催化活性,可广泛应用于光解水制氢、降解污染物等领域。
搜索关键词: 一种 碳包覆 超薄 暴露 010 晶面单晶二 氧化 纳米 及其 制备 方法
【主权项】:
一种碳包覆超薄暴露(010)晶面单晶二氧化钛纳米带,其特征在于:该纳米带的厚度为2~5nm,宽度为10~20nm,暴露(010)晶面;碳包覆层的厚度为1~5nm。
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