[发明专利]一种用于磁共振成像的高介电常数衬垫新型结构在审

专利信息
申请号: 201711420015.3 申请日: 2017-12-25
公开(公告)号: CN109953758A 公开(公告)日: 2019-07-02
发明(设计)人: 李烨;罗超;李楠;陈巧燕;李柔;苏适;刘新 申请(专利权)人: 深圳先进技术研究院
主分类号: A61B5/055 分类号: A61B5/055
代理公司: 上海胜康律师事务所 31263 代理人: 李献忠;张静
地址: 518055 广东省深圳*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及一种磁共振成像的高介电常数衬垫新型结构。具体地,本发明提供了一种用于磁共振成像的高介电常数衬垫,其特征在于,所述高介电常数衬垫包含多个由高介电常数材料形成的方块的阵列,相邻的方块以一定的间隙连接在一起。所述间隙的尺寸为1mm~5mm。所述高介电常数材料为钛酸钡和水的均匀混合物。本发明利用的高介电常数材料衬垫结构解决了混合物分布不均匀的问题,并有效缓解了高介电常数材料衬垫在磁共振环境下对电磁场的屏蔽效应,提高了磁共振成像的均匀性。本发明还提供了用于形成所述高介电常数衬垫的方法。这种设计结构制作工艺简便,成本相对低,可根据实际需要进行尺寸扩展。
搜索关键词: 高介电常数 高介电常数材料 磁共振成像 均匀混合物 衬垫结构 尺寸扩展 间隙连接 屏蔽效应 设计结构 有效缓解 制作工艺 电磁场 不均匀 磁共振 混合物 均匀性 钛酸钡
【主权项】:
1.一种用于磁共振成像的高介电常数衬垫,其特征在于,所述高介电常数衬垫包含多个由高介电常数材料形成的方块的阵列,相邻的方块以一定的间隙连接在一起。
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