[发明专利]一种双摄像头曝光同步控制方法和系统有效
| 申请号： | 201711423733.6 | 申请日： | 2017-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN107872625B | 公开（公告）日： | 2020-05-22 |
| 发明（设计）人： | 许兴涛;李建华;高艳朋 | 申请（专利权）人： | 信利光电股份有限公司 |
| 主分类号： | H04N5/235 | 分类号： | H04N5/235;H04N5/355 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 罗满 |
| 地址： | 516600 广东省汕*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种双摄像头曝光同步控制方法和系统，其其中，方法包括：步骤1，对双摄像头模组的主副摄像头曝光一致性进行校正；步骤2，通过控制变量法获得双摄像头模组的主副摄像头的linecount参数值、Again参数值和环境亮度与曝光值的线性关系，测量获得主副摄像头曝光线性比例参数k1、k2；步骤3，根据主副摄像头曝光线性比例参数k1、k2，通过控制变量的方式调整副摄像头的曝光设置。所述双摄像头曝光同步控制方法和系统，通过判断获得双摄像头模组的主副摄像头曝光一致性后，测量获得linecount参数值、Again参数值和环境亮度与曝光值的线性关系，并获得曝光线性比例参数k1、k2，然后按照二者的关系，调整获得副摄像头的曝光设置，从而达到曝光同步。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 摄像头 曝光 同步 控制 方法 系统 | ||
【主权项】：
一种双摄像头曝光同步控制方法，其特征在于，包括：步骤1，对双摄像头模组的主副摄像头曝光一致性进行校正；步骤2，通过控制变量法获得所述双摄像头模组的主副摄像头的Linecout参数值、Again参数值和环境亮度与曝光值的线性关系，测量获得所述主副摄像头曝光线性比例参数k1、k2；步骤3，根据所述主副摄像头曝光线性比例参数k1、k2，通过控制变量的方式调整副摄像头的曝光设置。
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