[发明专利]一种品字型位移测量光栅的制作方法在审

专利信息
申请号: 201711431915.8 申请日: 2017-12-26
公开(公告)号: CN108444389A 公开(公告)日: 2018-08-24
发明(设计)人: 于宏柱;吕强;李文昊;吉日嘎兰图;刘兆武;巴音贺希格;唐玉国;齐向东 申请(专利权)人: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
主分类号: G01B11/02 分类号: G01B11/02;G02B5/18
代理公司: 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙) 44316 代理人: 赵勍毅
地址: 130033 吉林省长春*** 国省代码: 吉林;22
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摘要: 发明提供的一种品字型位移测量光栅的制作方法,包括:获取至少两个主测量光栅及一块副测量光栅,两个主测量光栅沿光栅矢量方向首尾拼接,副测量光栅固定在两个主测量光栅的接缝处,主测量光栅及所述副测量光栅共面且呈品字型分布,将所述至少两个主测量光栅及一块副测量光栅放置于拼接机构,调整主测量光栅及副测量光栅在所述拼接机构上的位置使得拼接间隙符合预设范围进行拼接固定得到品字型位移测量光栅,拼接间隙为所述主测量光栅及所述副测量光栅之间距离。通过本发明提出的方法制作符合位移测量要求的长行程、品字型位移测量光栅,方法操作简单,易于实现,解决了高刻线密度光栅难以做长的问题,扩大了衍射光栅位移测量系统的量程。
搜索关键词: 光栅 主测量 位移测量 品字型 测量 拼接机构 拼接间隙 制作 光栅矢量方向 位移测量系统 拼接固定 首尾拼接 衍射光栅 长行程 接缝处 量程 预设
【主权项】:
1.一种品字型位移测量光栅的制作方法,其特征在于,所述方法包括:获取至少两个主测量光栅及一块副测量光栅,所述两个主测量光栅沿光栅矢量方向首尾拼接,所述副测量光栅固定在所述两个主测量光栅的接缝处,所述主测量光栅及所述副测量光栅共面且呈品字型分布;将所述至少两个主测量光栅及一块副测量光栅放置于拼接机构;调整所述主测量光栅及所述副测量光栅在所述拼接机构上的位置使得拼接间隙符合预设范围进行拼接固定得到品字型位移测量光栅,所述拼接间隙为所述主测量光栅及所述副测量光栅之间距离。
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