[发明专利]一种涂布机及其刮拭装置有效

专利信息
申请号: 201711432393.3 申请日: 2017-12-26
公开(公告)号: CN108037635B 公开(公告)日: 2021-03-30
发明(设计)人: 何文超 申请(专利权)人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F7/16;B05C15/00
代理公司: 深圳汇智容达专利商标事务所(普通合伙) 44238 代理人: 孙威;潘中毅
地址: 518000 广东省深*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种用于涂布机的刮拭装置,包括:刮拭基座;设置在阻隔室中的用以对刮拭基座进行驱动的驱动马达,驱动马达和刮拭基座通过连接杆进行连接,其中:阻隔室包括:用以装设驱动马达的容置区;设在刮拭基座和容置区之间的阻隔区,阻隔区与容置区相连通,阻隔区将刮拭基座所在的工作区和容置区隔离。本发明还公开了一种涂布机。实施本发明的涂布机及其刮拭装置,能够增强隔离效果,有效避免光阻飞溅至驱动源,从而保证刮拭效果和设备正常作业;结构精简,传动安全可靠,便于维修和维护。
搜索关键词: 一种 涂布机 及其 装置
【主权项】:
1.一种用于涂布机的刮拭装置,其特征在于,包括:刮拭基座;设置在阻隔室中的用以对所述刮拭基座进行驱动的驱动马达,所述驱动马达和所述刮拭基座通过连接杆进行连接,其中:所述阻隔室包括:用以装设所述驱动马达的容置区;设在所述刮拭基座和所述容置区之间的阻隔区,所述阻隔区与所述容置区相连通,所述阻隔区将刮拭基座所在的工作区和所述容置区隔离。
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